เปิดเบื้องลึก ‘จีน’ ทลายกำแพง ‘สหรัฐ’ สร้างเครื่องผลิตชิปขั้นสูงเองสำเร็จ

สงครามเงียบระหว่างจีนและสหรัฐด้านความเป็นผู้นำเทคโนโลยีถูกจับตามองขึ้นอีกครั้ง เมื่อจีนได้แอบดำเนินโครงการระดับชาติที่ถูกเปรียบเทียบว่าเป็น "โครงการแมนฮัตตัน” ยุคใหม่ ณ เมืองเซินเจิ้น ในห้องปฏิบัติการลับที่มีการรักษาความปลอดภัยสูงสุดแห่งหนึ่ง

รอยเตอร์รายงานว่า จีนประสบความสำเร็จในการสร้าง "ต้นแบบเครื่องพิมพ์ลิโทกราฟี” ที่เรียกว่า EUV ซึ่งเป็นเทคโนโลยีขั้นสูง และเป็นหัวใจสำคัญใช้ในการผลิตชิปขนาดเล็กและทรงพลังที่สุดในปัจจุบัน ความสำเร็จนี้อาจเปลี่ยนกระดานอำนาจเทคโนโลยีโลกจากเดิมที่นักวิเคราะห์คาดการณ์ว่าจีนต้องใช้เวลาอีกนับทศวรรษ ให้เหลือเพียงไม่กี่ปี

ASML ผู้ผูกขาดเทคโนโลยี 

เครื่องจักร EUV เป็นหัวใจสำคัญของการผลิตชิปที่ทันสมัยที่สุดในโลก เครื่องจักรนี้ใช้ลำแสงอัลตราไวโอเลตความเข้มสูงในการสลักวงจรที่บางกว่าเส้นผมมนุษย์หลายพันเท่าลงบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน ยิ่งวงจรเล็ก ชิปก็ยิ่งทรงพลัง

ปัจจุบัน มีบริษัทเดียวในโลกที่ผลิตเครื่อง EUV ได้ คือ ASML จากเนเธอร์แลนด์ เครื่องแต่ละเครื่องมีราคา 250 ล้านดอลลาร์  มีขนาดเท่ารถโรงเรียน และหนัก 180 ตัน ASML ใช้เวลาเกือบ 2 ทศวรรษและเงินหลายพันล้านยูโรในการพัฒนาจนสามารถผลิตชิปเชิงพาณิชย์ได้ในปี 2562

เครื่อง EUV ทำงานด้วยกระบวนการที่ซับซ้อนมาก จากการยิงเลเซอร์ไปที่ดีบุกหลอมเหลว 50,000 ครั้งต่อวินาที สร้างพลาสมาที่อุณหภูมิ 200,000 องศาเซลเซียส หรือร้อนกว่าพื้นผิวดวงอาทิตย์ 35 เท่า และแสงถูกโฟกัสด้วยกระจกพิเศษจาก Carl Zeiss AG ของเยอรมนี ซึ่งต้องใช้เวลาหลายเดือนในการผลิตกระจกเพียงชิ้นเดียว สุดท้าย แสงที่โฟกัสแล้วจะสลักวงจรลงบนเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยความแม่นยำระดับนาโนเมตร

ปัจจุบัน ระบบ EUV ของ ASML มีให้บริการเฉพาะพันธมิตรของสหรัฐเท่านั้น ได้แก่ บริษัท TSMC  ผู้ผลิตชิปรายใหญ่ที่สุดในโลกจากไต้หวัน, ซัมซุง , ญี่ปุ่น และจากสหรัฐ  ซึ่งนำไปสู่การออกแบบชิปของ Nvidia และ AMD 

แต่ในขณะนี้ นักวิทยาศาสตร์และวิศวกรชาวจีนได้สร้างสิ่งที่วอชิงตันพยายามป้องกันมาตั้งแต่ปี 2561 นั่นคือต้นแบบเครื่องจักรที่สามารถผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์รุ่นล้ำสมัยที่สุดในโลก โดยในปีนั้นสหรัฐ เริ่มกดดันเนเธอร์แลนด์ให้สกัดกั้นการขายเครื่อง EUV ให้จีน 

มาตรการเหล่านี้เข้มงวดขึ้นในปี 2565 เมื่อรัฐบาลไบเดนบังคับใช้การควบคุมการส่งออกอย่างรุนแรงเพื่อตัดการเข้าถึงเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงของจีน 

ASML ยืนยันว่าไม่เคยขายเครื่อง EUV ให้กับลูกค้าในจีนเลยแม้แต่รายเดียว ทำให้จีนล้าหลังในความสามารถการผลิตชิปอย่างน้อยหนึ่งรุ่น ดังนั้นการค้นพบต้นแบบในเซินเจิ้นชี้ให้เห็นว่าจีนอาจเข้าใกล้เป้าหมายมากกว่าที่คาด

 ASML แถลงการณ์ว่า "เป็นเรื่องที่เข้าใจได้ว่าบริษัทต่างๆ ต้องการลอกเลียนแบบเทคโนโลยีของเรา แต่ก็ไม่ใช่เรื่องง่ายเลย"

รัฐบาลภายใต้การนำของประธานาธิบดีทรัมป์ ได้เพิ่มความเข้มงวดในการสั่งห้ามส่งออกเครื่องจักรและอุปกรณ์ผลิตชิปขั้นสูงไปยังจีน โดยย้ำว่ากำลังประสานงานอย่างใกล้ชิดกับประเทศพันธมิตรเพื่อ “ปิดทุกช่องโหว่” ที่จีนอาจใช้ลักลอบเข้าถึงเทคโนโลยี ในขณะที่เทคโนโลยีฝั่งตะวันตกเองก็กำลังพัฒนาไปข้างหน้าอย่างไม่หยุดยั้ง

ขณะเดียวกัน เนเธอร์แลนด์กำลังออกกฎใหม่ที่บังคับให้มหาวิทยาลัยและสถาบันวิจัยต่างๆ ต้อง “เช็กประวัติบุคลากร” อย่างละเอียด เพื่อป้องกันไม่ให้ความลับทางเทคโนโลยีรั่วไหลไปถึงมือคนที่มีเจตนาร้าย หรือบุคคลที่เสี่ยงจะถูกรัฐบาลต่างชาติ เช่น จีน บีบบังคับให้คายข้อมูล

แหล่งข่าวระบุว่า มาตรการคว่ำบาตรเหล่านี้ส่งผลกระทบอย่างรุนแรง โดยทำให้ความพยายามของจีนที่จะสร้างชิปด้วยตัวเองต้อง “ล่าช้าออกไปหลายปี” และยังเป็นอุปสรรคสำคัญที่ทำให้ Huawei ไม่สามารถผลิตชิปสเปกสูงในปริมาณมากอย่างที่ต้องการได้

‘โครงการแมนฮัตตัน’ เวอร์ชันจีน 

โครงการนี้ไม่ได้เป็นเพียงการวิจัยทั่วไป แต่อยู่ภายใต้ยุทธศาสตร์ด้านเซมิคอนดักเตอร์ของประเทศ ซึ่งสื่อของรัฐระบุว่าดำเนินการโดย “ติง เสวี่ยเซียง” ดำรงตำแหน่งประธานคณะกรรมการวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีกลางของพรรคคอมมิวนิสต์ ซึ่งเป็นคนสนิทของสี จิ้นผิง 

นอกจากนี้แหล่งข่าวระบุว่า ยังมีบริษัทเทคโนโลยียักษ์ใหญ่อย่างหัวเว่ย (Huawei) เป็นฟันเฟืองหลักในการประสานงานกับบริษัทและสถาบันวิจัยของรัฐทั่วประเทศ ซึ่งมีการทำงานร่วมกับวิศวกรหลายพันคน

“เป้าหมายสูงสุดคือการสร้างวงจรการผลิตชิปขั้นสูงด้วยเทคโนโลยีในประเทศแบบ 100% เพื่อบรรลุเจตจำนงในการตัดขาดและขับเคลื่อนสหรัฐออกจากห่วงโซ่อุปทานเทคโนโลยีของจีนอย่างถาวร” แหล่งข่าวรายหนึ่งกล่าว

ผู้คนต่างกล่าวว่า นี่คือโครงการแมนฮัตตันเวอร์ชันจีน ก่อนหน้านี้ โครงการแมนฮัตตันเกิดขึ้นในสหรัฐ ในช่วงสงครามโลกครั้งที่ 2 ซึ่งเป็นโครงการพัฒนาอาวุธนิวเคลียร์ของสหรัฐ

อย่างไรก็ดี ทั้งบริษัทหัวเว่ย สภาแห่งรัฐของจีน สถานทูตจีนประจำกรุงวอชิงตัน และกระทรวงอุตสาหกรรมและเทคโนโลยีสารสนเทศของจีน ไม่ได้ตอบกลับคำขอให้แสดงความคิดเห็น

 ‘หัวเว่ย’ ฟันเฟืองหลัก เบื้องหลังโครงการ

ข้อมูลจากแหล่งข่าววงในระบุว่า บทบาทของหัวเว่ยนั้นครอบคลุมตั้งแต่ต้นน้ำถึงปลายน้ำ  และความสำคัญของโครงการนี้สูงถึงขนาดที่เหริน เจิ้งเฟย ซีอีโอผู้ก่อตั้งหัวเว่ย เป็นผู้รายงานความคืบหน้าของโครงการนี้ต่อผู้นำระดับสูงของรัฐบาลจีนด้วยตนเอง

หัวเว่ยได้ส่งกองทัพพนักงานและนักวิทยาศาสตร์กระจายตัวไปประจำการตามสำนักงาน โรงงาน และศูนย์วิจัยทั่วประเทศ เพื่อให้ภารกิจระดับชาติสำเร็จลุล่วง  แต่สิ่งที่น่าตกใจคือเงื่อนไขการทำงานที่เข้มงวด  

พนักงานในทีมเซมิคอนดักเตอร์มักจะต้องกินนอนในสถานที่ทำงาน โดยถูกสั่งห้ามไม่ให้กลับบ้านตลอดช่วงสัปดาห์การทำงาน และทีมที่รับผิดชอบข้อมูลที่มีความละเอียดอ่อนสูงจะถูกจำกัดการเข้าถึงโทรศัพท์มือถือ เพื่อป้องกันการรั่วไหลของข้อมูลสู่ภายนอก

แม้แต่พนักงานภายในหัวเว่ยเอง ก็มีเพียงส่วนน้อยเท่านั้นที่รู้ภาพรวมของโครงการนี้  

แผนดึงตัววิศวกรจาก ASML

จีนได้ดำเนินโครงการลับเพื่อพัฒนาเทคโนโลยีผลิตชิปขั้นสูง โดยสรรหาวิศวกรชาวจีนจากบริษัท ASML   มาทำงาน วิศวกรเหล่านี้ถูกให้ใช้ชื่อและบัตรประจำตัวปลอมเพื่อปกปิดตัวตน พร้อมได้รับเงินโบนัสก้อนโต

วิศวกรคนหนึ่งเล่าว่า เขาประหลาดใจที่พบเพื่อนร่วมงานเก่าจาก ASML หลายคนในโครงการ ทุกคนใช้ชื่อปลอมและถูกสั่งเคร่งครัดว่า “ห้ามบอกใครว่าทำงานอะไรหรืออยู่ที่ไหน” เพราะเป็นโครงการความมั่นคงแห่งชาติ

ทางการจีนมุ่งเป้าไปที่ วิศวกรและนักวิทยาศาสตร์จีนที่เพิ่งเกษียณจาก ASML เพราะมีความรู้ลึกแต่ไม่มีข้อผูกมัดทางอาชีพแล้ว โดยพนักงานปัจจุบันของ ASML สัญชาติจีนในเนเธอร์แลนด์ถูกหัวเว่ยติดต่อตั้งแต่ปี 2563

จีนเสนอแพ็กเกจจูงใจให้ผู้เชี่ยวชาญต่างชาติกลับมาตั้งแต่ปี 2562 ทั้งการให้โบนัสเซ็นสัญญา 420,000-700,000 ดอลลาร์, เงินอุดหนุนซื้อบ้าน และบางคนที่มีสัญชาติต่างชาติได้รับหนังสือเดินทางจีนพิเศษ ทั้งที่จีนห้ามถือสองสัญชาติ

หลิน หนาน อดีตหัวหน้าฝ่ายเทคโนโลยีแหล่งกำเนิดแสงของ ASML ได้รับการว่าจ้าง ทีมของเขาที่สถาบันทัศนศาสตร์เซี่ยงไฮ้ยื่นจดสิทธิบัตรเทคโนโลยี EUV ถึง 8 ฉบับภายใน 18 เดือน

แหล่งข่าวยืนยันว่าหากไม่มีผู้เชี่ยวชาญจาก ASML ความก้าวหน้าในเซินเจิ้นคงเป็นไปไม่ได้ เพราะการถอดแบบเครื่องจักรเทคโนโลยีชั้นสูงต้องการความรู้เชิงลึกที่มีเฉพาะคนในวงการเท่านั้น

หน่วยข่าวกรองเนเธอร์แลนด์เตือนว่าจีน "ใช้โครงการจารกรรมอย่างกว้างขวาง" เพื่อได้เทคโนโลยีตะวันตก รวมถึงการชักชวนนักวิทยาศาสตร์และพนักงานบริษัทเทคโนโลยีชั้นนำ

จีนใช้วิศวกรรมย้อนกลับ แกะรอยเทคโนโลยี

ในขณะที่โลกตะวันตกพยายามสกัดกั้นการเข้าถึงเทคโนโลยีชิปขั้นสูงของจีน รายงานล่าสุดเผยให้เห็นว่า จีนกำลังใช้วิธี "วิศวกรรมย้อนกลับ" อย่างเป็นระบบ เพื่อสร้างเครื่องพิมพ์ลิโทกราฟี EUV  ขึ้นเองภายในประเทศ 

ภายในห้องปฏิบัติการลับในเมืองเซินเจิ้น ต้นแบบเครื่องพิมพ์ EUV ของจีนได้ถือกำเนิดขึ้น หลังจากความพยายามครั้งแรกในการจำลองขนาดที่ล้มเหลว ทีมวิศวกรจีนตัดสินใจสร้างต้นแบบที่มีขนาดใหญ่ขึ้นหลายเท่า เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพในการทำงาน แม้ว่าต้นแบบนี้จะยัง "หยาบ" และตามหลังเครื่องจักรของ ASML อยู่มาก แต่ก็ถือว่า "ใช้งานได้" สำหรับการทดสอบเบื้องต้น

แหล่งข่าวระบุว่า สถาบันวิจัยชั้นนำของจีน เช่น สถาบันทัศนศาสตร์ กลศาสตร์ละเอียด และฟิสิกส์ฉางชุน (CIOMP) กำลังมีบทบาทสำคัญในการพัฒนาทางเลือกภายในประเทศ ทำให้เครื่องสามารถใช้งานได้จริงในช่วงต้นปี 2568 แม้จะยังต้องปรับปรุงอย่างมากก็ตาม

จีนหันไปใช้กลยุทธ์ที่หลากหลาย ทั้งการนำชิ้นส่วนจากเครื่องจักร ASML รุ่นเก่ามาใช้ และจัดหาจากซัพพลายเออร์ของ ASML ผ่านตลาดมือสอง รวมถึงมีข้อมูลพบว่ามีการประมูลอุปกรณ์ลิโทกราฟีของ ASML รุ่นเก่าใน Alibaba Auction ในเดือนต.ค.ที่ผ่านมา

บางครั้งมีการใช้เครือข่ายบริษัทตัวกลางเพื่อปกปิดตัวตนของผู้ซื้อขั้นสุดท้าย เพื่อให้ได้ชิ้นส่วนที่ถูกจำกัดการส่งออกจากบริษัทญี่ปุ่นอย่าง Nikon และ Canon

แหล่งข่าวระบุว่า การมีชิ้นส่วนจากเครื่องจักร ASML รุ่นเก่าในตลาดมือสองทำให้จีนสามารถสร้างต้นแบบภายในประเทศได้ โดยรัฐบาลตั้งเป้าหมายที่จะผลิตชิปที่ใช้งานได้จริงจากต้นแบบนี้ภายในปี  2571 แต่ผู้ที่ใกล้ชิดกับโครงการนี้มองว่าเป้าหมายที่เป็นไปได้มากกว่าคือปี 2573 แต่ก็ยังเร็วกว่าทศวรรษที่นักวิเคราะห์เชื่อว่าจีนจะก้าวทันชาติตะวันตกในด้านชิปอยู่หลายปี

ในกระบวนการวิศวกรรมย้อน ต้องใช้ทีมวิศวกรจบใหม่ประมาณ 100 คน ที่ได้รับการว่าจ้างมาเพื่อทำ” วิศวกรรมย้อนกลับ" ชิ้นส่วนจากเครื่องพิมพ์ลิโทกราฟีทั้งแบบ EUV และ DUV โดยละเอียด 

การทำงานของพนักงานแต่ละคนถูกบันทึกด้วยกล้องส่วนตัว เพื่อเก็บรายละเอียดการถอดประกอบและประกอบชิ้นส่วนต่าง ๆ อย่างแม่นยำ และผู้ที่ประกอบชิ้นส่วนได้สำเร็จจะได้รับโบนัส ซึ่งแสดงให้เห็นถึงความสำคัญของภารกิจนี้ต่อโครงการระดับชาติของจีน

เจฟฟ์ คอช นักวิเคราะห์จาก SemiAnalysis ชี้ว่า “หากจีนสามารถพัฒนาแหล่งกำเนิดแสงที่มีกำลังเพียงพอ เชื่อถือได้ และไม่ก่อให้เกิดมลพิษมากเกินไปได้สำเร็จ ก็จะถือเป็นความสำเร็จ และสามารถเกิดขึ้นได้โดยไม่ต้องตั้งคำถาม แต่ต้องใช้เวลา ทว่าจีนเองก็มีข้อได้เปรียบจากการมีเทคโนโลยี EUV เชิงพาณิชย์อยู่แล้ว จึงไม่ได้เริ่มต้นจากศูนย์”

อ้างอิง Reuters